全自动研磨抛光系统产品介绍
全自动研磨抛光系统 SAPHIR X-Change 产品介绍：
全新的全自动紧凑型研磨和抛光系统SAPHIR X-Change将几米的标准研磨和抛光设备组合成一个单元，例如带有16个研磨和抛光介质的加油架，集成的加料单元和沉淀池。通过直观的触摸屏控制自动操作，中心力夹具易于手动卸载和固定，简化了样品制备的准备过程，磨削和抛光介质自动更换，所有参数可在此过程中直接调整。
半遮盖的工作区域配有大面板和光栅，可提供高水平的安全性。
全自动研磨抛光系统产品特点：
中心力磨抛系统
铝制外壳，粉末涂层，磨抛头速度可调
定量磨削
触摸屏电子控制
磨盘自动更换
带有水、气和乙醇的清洁站
超声波清洗器
6位自动加液系统（4位金刚石悬浮液，1位润滑液，1位终抛液）
磨盘储存抽屉
45升沉淀槽
光阻功能确保安全
全自动研磨抛光系统技术参数
全自动研磨抛光系统SAPHIR X-Change参数
工作盘尺寸： | ? 250 mm |
运行功率： | 1.1 kW S3/40% |
磨抛夹具尺寸： | 160 mm |
磨抛头运行功率： | 0.17 kW S1 |
磨抛头转速： | 30 - 150 rpm |
底盘转速： | 50 - 600 rpm |
定量磨削 (显示精度)： | 0.01 mm |
水压： | 1x fresh water R?" max. 6 bar |
出水口： | 1x waste water DN50 |
压缩空气： | 6 bar. coupling connector NG8 |
宽 x 高 x 深： | 1320 x 1500 x 800 mm |
全自动研磨抛光系统标准配置
全自动研磨抛光系统可选配件
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型号:FRD
台湾Toptech自动研磨抛光机E系列-FRD双马达设计，使两边研磨盘可以单独控制，操作更方便灵活。具备双向研磨转盘，同向旋转是精抛磨，反向旋转是粗抛磨，快速省时高精度?？梢啦煌闹恃?，自行调整转盘转速，获取最佳精度。
